Grafito ISO de alta pureza

Grafito ISO de alta pureza
Detalles:
El grafito ISO de alta pureza cuenta con un contenido de carbono superior o igual al 99,99 %, una estructura densa, una excelente conductividad térmica/eléctrica y resistencia al calor, ideal para semiconductores y hornos de alta-temperatura.
Cantidad mínima de pedido: 1 bolsa/50 kg
Material: grafito natural
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Descripción
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Núcleo del producto

El grafito ISO de alta pureza se fabrica mediante prensado isostático en frío (CIP) para lograr una densificación uniforme 3D bajo presión ultra-alta (140–200 MPa). Hecho de coque de petróleo purificado a más de 2500 grados, exhibe una densidad casi-teórica y una isotropía excelente, lo que garantiza un rendimiento estable en diversas aplicaciones.

Parámetros técnicos

Parámetro

Valor clave

Densidad

1,80-1,92 g/cm³

Contenido de ceniza

Menor o igual a 100 ppm

Relación de anisotropía

1.0–1.05

Coeficiente de Expansión Térmica (CTE)

4,2–5,0 × 10⁻⁶/K (RT–400 grados)

Pureza

C Mayor o igual a 99,9%

Conductividad térmica

110–130 W/(m·K)

Resistencia a la flexión

55–85 MPa

Los productos admiten personalización personalizada.

Características principales

  • Pureza ultra-alta: impurezas metálicas/cenizas ultra-bajas (Fe, Ca, Na), verificación ICP-MS, campos sensibles a las impurezas-.
  • Excelente densidad: Alta densidad aparente, baja porosidad, aumentando la conductividad térmica y la capacidad mecánica.
  • Isotropía: diferencias mínimas en expansión térmica/resistencia a la flexión en todas las direcciones.
  • Resistencia extrema al calor: Estable a altas temperaturas en atmósferas inertes (se necesita recubrimiento en ambientes oxidantes por encima de temperaturas específicas).
  • Resistencia al choque térmico: Resiste cambios rápidos de temperatura sin agrietarse.
  • Maquinabilidad de precisión: el grafito ISO de alta pureza presenta tolerancias estrictas y puede procesarse en piezas complejas (discos de turbina, crisoles).

Aplicaciones clave

  • Semiconductor: componentes térmicos de hornos de silicio monocristalino/portadores de obleas (resistencia a altas temperaturas-, impurezas ultra-bajas).
  • Fotovoltaico: Crisoles/calentadores de lingotes de polisilicio (resisten la erosión por fusión del silicio).
  • Energía nuclear: reflectores de neutrones de reactor refrigerados-por gas-de alta temperatura (cumplen con las especificaciones de grado nuclear-).
  • Aeroespacial: inserciones en la garganta de las boquillas de los cohetes/aletas de misiles (resisten la ablación a temperaturas extremadamente altas-).
  • Metalurgia-de alta gama: crisoles de fusión de aleación de titanio (reutilizables, sin fugas).
  • Equipos industriales: electrodos de electroerosión/piezas clave de hornos de alta-temperatura.

Certificación y personalización

 

El grafito ISO de alta pureza cumple con los estándares SEMI F76 (semiconductor), ISO 8005 (nuclear), EN 10298/ASME BPVC (seguridad) y RoHS 3.0 (ambiental). Los servicios personalizados incluyen: silicición (para mejorar la resistencia a la oxidación), impregnación secundaria (para aumentar la densidad) y optimización de la estructura ultra-fina (para mejorar la tenacidad).

High Purity ISO Graphite
High Purity ISO Graphite

Etiqueta: Grafito ISO de alta pureza, fabricantes de Grafito ISO de alta pureza en China

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